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        電弧離子鍍膜設備

        電弧離子鍍膜設備 LZD1300


        一、產品概述

        1、功能:適用于各種金屬與非金屬表面鍍制金屬膜層(金、銀、銅、鋁、鉻、鋯、鈦等)、合金膜層(鈦鋁、鎳鉻、鉻鋁等)、化合物膜層(TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等)、多層復合膜等。因其無污染,潔凈環保,廣泛應用于餐具、五金產品、工藝品、衛浴產品、板材、貨架等各種裝飾、功能涂層等領域。

        2、產品特點:電弧離子鍍膜設備是采用冷陰極自持弧光放電,瞬間使鍍膜材料受熱蒸發,靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理,是具有沉積速率快,離化率高等特點的鍍膜設備,膜層光亮致密,我公司自主開發全自動控制系統可實現一鍵化操作;適合高端產品涂層鍍膜的穩定連續生產。

         

        二、技術參數

        型號LZD1300
        真空腔室尺寸Φ1300×H1200mm
        真空系統國產或進口分子泵/擴散泵+羅茨泵+機械泵高真空系統
        極限真空優于2.0×10-4Pa
        抽速從大氣到3.3×10-3Pa≤30min,升壓率關機12小時后真空度≤10Pa
        工件架尺寸12-24工位可選
        工件烘烤溫度室溫~200℃,可調可控(PID控溫)
        配置弧源(柱弧、圓弧)、離子源、偏壓
        系統全自動控制系統,個性化的Tech-Coating控制菜單,安全保護系統
        占地面積長×寬:4m×3m


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