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        大面積平板鍍膜設備

        大面積平板鍍膜設備


        一、產品概述

        1、主要用途:適合在大面積玻璃、亞克力板、PC表面沉積納米級金屬膜(金、銀、銅、鋁、鉻等)、半導體膜(ITO、AZO等)、介質膜(氧化鈦、氧化鉻、氧化鎢)等,廣泛應用在光伏、光電、觸摸屏、半導體、平板電極及建筑裝飾玻璃等行業。

        2、產品優點及特點:采用磁控濺射方式,沉積速率快,膜層均勻致密,光亮度好,在大面積上的鍍膜不均勻性≤±5%,特別適合有功能性要求的膜層制備及控制;例:鍍膜導電膜層,電阻值均勻可控,可以控制為穩定電阻,也可控制為漸變電阻。加上自主開發全自動控制系統可實現一鍵化操作;保證產品鍍膜性能連續穩定;設備采用模塊化設計,可根據生產量增加鍍膜模塊及其他拓展模塊,設備易拆卸、維護保養。

         

        二、技術參數

        型號JCPF1600/1900/2400/3000/4200/4500
        真空系統國產或進口分子泵/擴散泵+羅茨泵+機械泵高真空系統
        極限真空優于8.0×10-5Pa
        抽速從大氣到3.3×10-3Pa≤30min, 升壓率關機12小時后真空度≤10Pa
        工件架尺寸可根據尺寸定制
        工件烘烤溫度室溫~300℃,可調可控(PID控溫)
        配置弧源、蒸發電極、矩形磁控靶、離子源、偏壓可選
        系統全自動控制系統,個性化的Tech-Coating控制菜單,安全保護系統


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